[한스경제=최정화 기자] 삼성전자가 전 세계 최초로 GAA 기반 3나노 파운드리 제품을 공개했다. 이로써 삼성전자는 초미세공정에서 대만 TSMC보다 한 발 앞서 나아가게 되면서 파운드리 판도에도 변화가 생길 것이라는 관측이다.

삼성전자는 25일 경기도 화성캠퍼스 V1라인(EUV 전용)에서 차세대 트랜지스터 게이트올어라운드(GAA) 기술을 적용한 3나노 파운드리 제품 출하식을 개최했다고 밝혔다.

이날 행사에는 이창양 산업통상자원부 장관과 경계현 삼성전자 DS부문장 사장을 비롯해 삼성전자 임직원, 협력사, 팹리스 등 100여명이 참석했다.

삼성전자 파운드리사업부는 “혁신적인 기술력으로 세계 최고를 향해 나아가겠다”며 ”3나노 GAA 공정 양산과 선제적인 파운드리 기술로 사업 경쟁력을 강화해 나가겠다”고 밝혔다.

정기태 삼성전자 파운드리사업부 기술개발실장 부사장은 "파운드리사업부, 반도체연구소, 글로벌 제조&인프라총괄 등 사업부를 넘어선 협업으로 기술개발 한계를 극복했다"고 강조했다. 

이어 정 부사장은 기술 개발 경과보고를 통해  개발에서부터 양산에 이르기까지의 과정을 설명했다.

경 사장은 또 "삼성전자는 이번 제품 양산으로 파운드리 사업에 한 획을 그었다"며 "핀펫 트랜지스터가 기술적 한계에 다다랐을 때 새로운 대안이 될 GAA 기술의 조기 개발에 성공한 것은 무에서 유를 창조하는 혁신적인 결과"라고 말했다.

이 장관은 축사에서 삼성전자 임직원과 반도체 산업계의 노고에 감사를 표하고 "치열한 미세공정 경쟁에서 앞서기 위해 삼성전자와 시스템반도체 업계, 소부장 업계가 힘을 모아달라"고 당부했다. 

그러면서 "정부도 지난주 발표한 반도체 초강대국 달성전략을 바탕으로 민간 투자 지원, 인력 양성, 기술 개발, 소부장 생태계 구축에 전폭적인 노력을 아끼지 않을 것"이라 약속했다.

삼성전자는 GAA 트랜지스터 구조 연구를 2000년대 초부터 시작해 왔다. 2017년부터 3나노 공정에 본격 적용해 왔으며 지난달 세계 최초로 GAA 기술이 적용된 3나노 공정 양산을 발표했다.

삼성전자는 3나노 GAA 공정을 고성능 컴퓨팅(HPC)에 처음으로 적용하고, 주요 고객들과 모바일 SoC 제품 등 다양한 제품군에 확대 적용을 위해 협력하고 있다.

삼성전자는 화성캠퍼스에서 3나노 GAA 파운드리 공정 제품 양산을 시작했으며, 향후 평택캠퍼스까지 확대해 나갈 예정이다.

최정화 기자 choijh@sporbiz.co.kr